${\mathrm{R}}_3\mathrm{SiCl}$ on complete hydrolysis forms:

1.  ${\mathrm{R}}_3\mathrm{SiOH}$

2.  ${\mathrm{R}}_3\mathrm{Si}—\mathrm{O}—{\mathrm{SiR}}_3$

3.  ${\mathrm{R}}_3\mathrm{Si}=\mathrm{O}$

4.  none of these

${\mathrm{R}}_3\mathrm{SiCl}$ जलअपघटन पर निर्मित करता है:

1.  ${\mathrm{R}}_3\mathrm{SiOH}$

2.  ${\mathrm{R}}_3\mathrm{Si}—\mathrm{O}—{\mathrm{SiR}}_3$

3.  ${\mathrm{R}}_3\mathrm{Si}=\mathrm{O}$

4. इनमें से कोई नहीं

Percentage of lead in lead pencil is:

1.  20

2.  zero

3.  80

4.  70

लेड पेंसिल में लेड का प्रतिशत है:

1.  20

2. ज़ीरो 

3.  80

4.  70

Which one is explosive?

1.  ${\mathrm{PCl}}_5$

2.  $\mathrm{Pb}{\left({\mathrm{NO}}_3\right)}_2$

3.  ${\mathrm{NH}}_4{\mathrm{NO}}_3 + \mathrm{Al} \mathrm{powder}$

4.  ${\mathrm{C}}_6{\mathrm{H}}_5{\mathrm{NO}}_2$

कौन सा विस्फोटक है?

1.  ${\mathrm{PCl}}_5$

2.  $\mathrm{Pb}{\left({\mathrm{NO}}_3\right)}_2$

3.  ${\mathrm{NH}}_4{\mathrm{NO}}_3 + \mathrm{Al} \text{चूर्ण }$

4.  ${\mathrm{C}}_6{\mathrm{H}}_5{\mathrm{NO}}_2$

Reactivity of borazole is greater than that of benzene because:

1.  borazole is non-polar compound

2.  borazole is polar compound

3.  borazole is electron deficient compound

4.  of localized electron in it

बोराज़ोल की अभिक्रिया बेंजीन की तुलना में अधिक होती है क्योंकि:

1. बोराज़ोल अध्रुवीय यौगिक है

2. बोराज़ोल ध्रुवीय यौगिक है

3. बोराजोल इलेक्ट्रॉन न्यून यौगिक है

4. इसमें स्थानीयकृत इलेक्ट्रॉन होते हैं 

Which is amphoteric oxide?

1. ZnO

2. MnO^-₄

3. CO₂

4. SiO

जो लिटमस के लिए उदासीन है?

(1) ZnO

(2) SnO

(3) CO

(4) SiO

Aluminium becomes passive in nitric acid because it:

1.  is a noble metal

2.  forms a thin film of oxide

3.  positive reduction potential

4.  none of the above

नाइट्रिक अम्ल में ऐल्युमिनियम निष्क्रिय हो जाता है क्योंकि:

1. एक उत्कृष्ट धातु है

2. ऑक्साइड की एक पतली फिल्म निर्मित होती है

3. धनात्मक अपचयन विभव 

4. उपरोक्त में से कोई नहीं

$R_{3}SiCl$ on polymerisation after hydrolysis forms:

(1) $R_{3}SiOH$

(2) $R_{3}Si-O-Si{R}_3$

(3) $R_{2}Si=O$

(4) None of these

$R_{3}SiCl$ जलअपघटन पर निर्मित करता है:

(1) $R_{3}SiOH$

(2) $R_{3}Si-O-Si{R}_3$

(3) $R_{2}Si=O$

(4) इनमें से कोई नहीं

Which of the following shows bond in silicone?

1.  $\mathrm{Si}—\mathrm{C}—\mathrm{Si}—\mathrm{O}—\mathrm{Si}$

2.  $\mathrm{Si}—\mathrm{C}—\mathrm{Si}—\mathrm{C}—\mathrm{Si}$

3.  $—\stackrel{\mathbf{|}}{\mathrm{Si}}—\mathrm{O}—\stackrel{\mathbf{|}}{\mathrm{Si}}—\mathrm{O}—\stackrel{\mathbf{|}}{\mathrm{Si}}—$

4.  $\mathrm{Si}—\mathrm{Si}—\mathrm{Si}—\mathrm{Si}$

निम्नलिखित में से कौन सा सिलिकॉन में बंध दिखाता है?

1. $\mathrm{Si}—\mathrm{C}—\mathrm{Si}—\mathrm{O}—\mathrm{Si}$

2. $\mathrm{Si}—\mathrm{C}—\mathrm{Si}—\mathrm{C}—\mathrm{Si}$

3. $—\stackrel{\mathbf{|}}{\mathrm{Si}}—\mathrm{O}—\stackrel{\mathbf{|}}{\mathrm{Si}}—\mathrm{O}—\stackrel{\mathbf{|}}{\mathrm{Si}}—$

4. $\mathrm{Si}—\mathrm{Si}—\mathrm{Si}—\mathrm{Si}$

Boron carbide, ${\mathrm{B}}_4\mathrm{C}$ is widely used for:

1.  making acetylene

2.  making plaster of Paris

3.  as a hardest substance after diamond

4.  making boric acid

बोरान कार्बाइड, ${\mathrm{B}}_4\mathrm{C}$ किसके लिए व्यापक रूप से प्रयोग किया जाता है:

1. एसिटिलीन बनाने के लिए 

2. पेरिस का प्लास्टर बनाने के लिए

3. हीरे के बाद सबसे कठोर पदार्थ के रूप में

4. बोरिक अम्ल बनाने के लिए

The thermal stability order for group 14 halides is:

1.  ${\mathrm{GeX}}_2 < {\mathrm{SiX}}_2 < {\mathrm{SnX}}_2 < {\mathrm{PbX}}_2$

2.  ${\mathrm{SiX}}_2 < {\mathrm{GeX}}_2 < {\mathrm{PbX}}_2 < {\mathrm{SnX}}_2$

3.  ${\mathrm{SiX}}_2 < {\mathrm{GeX}}_2 < {\mathrm{SnX}}_2 < {\mathrm{PbX}}_2$

4.  ${\mathrm{PbX}}_2 < {\mathrm{SnX}}_2 < {\mathrm{GeX}}_2 < {\mathrm{SiX}}_2$

वर्ग 14 हैलाइड के लिए ऊष्मीय स्थायित्त्व क्रम है:

1.  ${\mathrm{GeX}}_2 < {\mathrm{SiX}}_2 < {\mathrm{SnX}}_2 < {\mathrm{PbX}}_2$

2.  ${\mathrm{SiX}}_2 < {\mathrm{GeX}}_2 < {\mathrm{PbX}}_2 < {\mathrm{SnX}}_2$

3.  ${\mathrm{SiX}}_2 < {\mathrm{GeX}}_2 < {\mathrm{SnX}}_2 < {\mathrm{PbX}}_2$

4.  ${\mathrm{PbX}}_2 < {\mathrm{SnX}}_2 < {\mathrm{GeX}}_2 < {\mathrm{SiX}}_2$